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Tg
Td
CTE
條件:
清空條件
特點
■ 無鹵素 (Cl or Br<900ppm) 、Tg 值大于 150℃、CTI 值≥600V
■ 優(yōu)秀的耐離子遷移性能
■ 優(yōu)良的機械加工性和耐熱性
■ 低 Z 向熱膨脹系數(shù),與無鉛制程兼容
■ 優(yōu)秀的耐離子遷移性能
■ 優(yōu)良的機械加工性和耐熱性
■ 低 Z 向熱膨脹系數(shù),與無鉛制程兼容
應用領域
新能源汽車、計算機、儀器儀表、通訊設備等
特點
■ 無鹵素 (Cl or Br<900ppm) 、Tg 值大于 170℃、CTI 值≥600V
■ 優(yōu)秀的耐離子遷移性能
■ 優(yōu)良的機械加工性和耐熱性
■ 低 Z 向熱膨脹系數(shù),與無鉛制程兼容
■ 優(yōu)秀的耐離子遷移性能
■ 優(yōu)良的機械加工性和耐熱性
■ 低 Z 向熱膨脹系數(shù),與無鉛制程兼容
應用領域
新能源汽車、 計算機、儀器儀表、 通訊設備、辦公設備等
特點
■ 無鹵素 (Cl or Br<900ppm)
■ 優(yōu)良的機械加工性和耐熱性
■ 低 Z 向熱膨脹系數(shù),與無鉛制程兼容
■ 優(yōu)良的機械加工性和耐熱性
■ 低 Z 向熱膨脹系數(shù),與無鉛制程兼容
應用領域
智能手機、平板電腦、汽車電子、通訊設備等
特點
■ 無鹵素 (Cl or Br<900ppm)
■ 優(yōu)良的耐熱性,Td 大于 350℃
■ 低 Z 向熱膨脹系數(shù)
■ 優(yōu)良的耐熱性,Td 大于 350℃
■ 低 Z 向熱膨脹系數(shù)
應用領域
智能手機、平板電腦、汽車電子、通訊設備、路由器等